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PVD薄膜生长的Monte Carlo模拟

Monte Carlo simulation of PVD thin film growth
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摘要 蒙特卡罗(Monte Carlo,MC)和分子动力学是模拟薄膜生长的两种基本方法.本文结合各种PVD技术的工艺特点,介绍了薄膜生长的Monte Carlo模拟.详尽地总结了载能粒子沉积薄膜生长的Kinetic Monte Carlo模型和算法.最后指出建立精细的模型、算法并适当应用分子动力学是提高模拟可靠性的方法.
机构地区 哈尔滨工业大学
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3205-3208,共4页 Journal of Functional Materials
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参考文献22

  • 1[4]Ozawa S, Sasajima Y, Heermann D W. Monte Carlo simulations of film growth. [J]. Thin Solid Films, 1996,272:172-183.
  • 2[6]Yang Y G, Zhou X W, Johnson R A, et al. Monte Carlo Simulaion of Hyperghermal Physical Vapor Deposition. [J].Acta Mater, 2001, 49:3321-3332.
  • 3李言荣,杨春.薄膜生长与原子尺度的计算机模拟[J].重庆师范学院学报(自然科学版),2002,19(3):1-6. 被引量:3
  • 4[9]Zhou X W, Johnson R A, Wadley H N G. A Molecular Dynamics Study of Nickel Vapor Adatom Energy Effects.[J]. Acta Mater, 1997, 45(4): 1513-1524.
  • 5[10]Yang Y G, Johnson R A, Wadley H N G. A Monte Carlo Simulation of The Physical Vapor Deposition of Nikel. [J].Acta Mater, 1997, 45(4): 1455-1468.
  • 6杨春,李言荣.薄膜生长模型与计算机模拟[J].功能材料,2003,34(3):247-249. 被引量:15
  • 7[13]Frenkel & Smit.分子模拟-从算法到应用.[M].北京:化学工业出版社,2002.18-118.
  • 8[14]Gustavo J. Sibona, Sascha Schreiber, Ronald H.W. Hoppe,Bemd Stritzker, Adrian Revnic. Numerical simulation of the production processes of layered materials. [J]. Materials Science in Semiconductor Processing, 2003, 6:71-76.
  • 9[15]Sprague J A, Gilmore C M. Molecular dynamics simulation of film-substrate interface mixing in the energetic deposition of fcc metals. [J]. Thin Solid Films, 1996, 272:244-254.
  • 10[16]Landau D P, Pal S, Shim Y. Monte Carlo simulations of film growth. [J]. Computer Physical Communications, 1999,121- 122: 341-346.

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