摘要
本文选择了四个主要影响蒙脱石有机化层间距的因素(插层剂含量、温度、搅拌时间、pH值)设计了18个试验,用极差法和回归法分析了实验结果,结果表明制备最大层间距的最佳工艺条件为:插层剂含量70%;温度为95℃;搅拌时间为2h;pH值为5,而且在插层剂含量＜70%时,制备的蒙脱石层间距与插层剂含量存在线性关系.即:蒙脱石层间距=1.771+2.828×插层剂含量,其他因素影响程度很小.这一结论对不经过X-ray测试而直接估算制备的蒙脱石层间距起到了指导性的作用.
出处
《中国非金属矿工业导刊》
2004年第z1期100-102,共3页
China Non-Metallic Minerals industry
基金
国土资源部项目(编号:121280201102)
