双层辉光离子渗金属渗入机理的研究被引量：13

Mechanism Research on the Double Glow Discharge Surface Alloying Process

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摘要本文从理论上分析了双层辉光离子渗金属的溅射问题及渗入机理，提出了四种渗入模型。 This paper deals with the question of the sputtering and permeating mechanism on double glow discharge surface alloying process. Four permeating models are put forward.

作者高原

机构地区太原工业大学离子渗金属研究所

出处《真空》 CAS 北大核心 1993年第2期16-19,55,共5页 Vacuum

关键词辉光放电离子渗金属溅射

分类号 TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]

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