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用新方法测量Si-SiO_2界面态电子俘获截面与温度及能量的关系
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摘要
本文提出了一个利用载流子填充电容瞬态初始时间变化率,准确测量在绝缘体与半导体界面上的界面态俘获截面的方法,其中考虑了电荷势反馈效应对载流子填充过程的影响,并给出准确计算这种影响的简单方法.将这一方法用于测量n型硅MOS电容器中的Si-SiO_2界面态.结果表明其电子俘获截面强烈地依赖于温度和能量.
作者
陈开茅
武兰青
许惠英
刘鸿飞
机构地区
北京大学物理系
北京有色金属研究总院
出处
《中国科学(A辑)》
CSCD
1993年第2期144-152,共9页
Science in China(Series A)
基金
国家自然科学基金
关键词
界面态
硅
氧化硅
电子俘获截面
分类号
O472 [理学—半导体物理]
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中国科学(A辑)
1993年 第2期
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