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直流等离子体CVD法合成的金刚石膜的断裂强度研究 被引量:4

FRACTURE STRENGTH STUDIES OF POLYCRYSTALLINE DIAMOND FILMS PRODUCED BY DC PLASMA CVD
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摘要 研究了直流等离子体激光化学汽相沉积(CVD)法合成金刚石膜的断裂强度。利用压力爆破技术测量了圆形金刚石膜的断裂强度。实验结果表明,断裂强度与金刚石颗粒大小、膜厚度、圆半径、甲烷浓度及衬底温度有密切的依赖关系,并对这些结果进行了讨论。 he fracture strength of Polycrystalline diamond films produced by DC plasma CVD is investigated.The fracture strength of circular diamond film was measured by a burst pressure technique. Experimental results have shown that the fracture strength is considerably dependent on grain size,sample thickness,apertune radius,methane concentration and substrate temperature.The results have also been discu- ssed.
机构地区 兰州大学物理系
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第9期1559-1563,共5页 Acta Physica Sinica
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  • 相关文献

参考文献5

  • 1王万录,高锦英,廖克俊.高速率低压气相合成金刚石薄膜[J].硅酸盐学报,1992,20(2):143-146. 被引量:3
  • 2王万录,真空科学与技术学报,1993年,2卷,112页
  • 3王万录,Thin Solid films,1992年,215卷,174页
  • 4王万录,物理学报,1992年,11卷,1906页
  • 5王万录,Phys Stat Sol,1991年,126卷,K115页

二级参考文献1

  • 1Seiichiro Matsumoto. Chemical vapour deposition of diamond in RF glow discharge[J] 1985,Journal of Materials Science Letters(5):600~602

共引文献2

同被引文献39

引证文献4

二级引证文献5

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