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MPCVD法沉积金刚石薄膜中等离子体光谱

AN INVESTIGATION OF PLASMA SPECTRUM IN THE PROCESS OF DIAMOND THIN FILM DEPOSITED BY MPCVD
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摘要 从等离子体发射光谱变化这一角度研究在不同沉积条件下等离子体中电子平均能量的特点,分析碳源气体分子与电子的碰撞以及碳氢基团的能态变化,从而对等离子体法沉积金刚石薄膜微观机理进行初步的探索。 The charactor of the average energy of the electrons in the plasma ballgenerated by microwaves is studied by observing the spectrum of the plasma ballunder different depositing conditions.The mechanism of deposition is discussedby analyzing the collisions between electrons and hydrocarbon molecules and thechange of the hydrocarbon radicals' energy.
出处 《应用科学学报》 CAS CSCD 1995年第1期35-38,共4页 Journal of Applied Sciences
关键词 等离子体 光谱 金刚石 薄膜 沉积 diamond film plasma spectrum,average energy of electrons.
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  • 相关文献

参考文献3

  • 1Zhang J,J Vac Sci Technol A,1990年,8卷,3期
  • 2李孝昌,真空紫外光谱学,1990年
  • 3钱振型,固体电子学中的等离子体技术,1987年
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