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光CVD—SiO_2薄膜的性能及其应用

THE SPECIALITY AND APPLICATION OF PHOTO-CVD-SiO_2 FILM
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摘要 采用光CVD法制备了良好的SiO2薄膜,为半导体器件及传感器表面修饰提供了一条新型可行的途径。 SiO2 film of good quality was manufactured by photo-CVD method. A new decorative way for semiconductors and gas sensors is presented.
出处 《南昌大学学报(理科版)》 CAS 1996年第1期14-16,共3页 Journal of Nanchang University(Natural Science)
基金 江西省自然科学基金 南昌大学校基金
关键词 光VCD 薄膜 二氧化硅 photo-CVD, film, speciality
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  • 相关文献

参考文献1

  • 1孙良彦,第二届全国敏感元件与传感器学术会议,1991年
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