期刊文献+

La_(1-x)Pr_xMnO_3(x=0·1,0·2)薄膜庞磁电阻性质的研究 被引量:2

Colossal magnetoresistance effect in the perovskite-type La_(1-x)Pr_xMnO_3 thin films
原文传递
导出
摘要 一种新的庞磁电阻氧化物薄膜La_(1-x)Pr_xMnO_3(x=0.1,0.2)薄膜用脉冲激光沉积(PLD)方法生长在(100)SrTiO_3单晶基底上.XRD结果显示薄膜具有很好的外延单晶取向.电输运和磁性质的研究表明薄膜具有显著的庞磁电阻效应(CMR)效应,其中磁电阻比率达95%(在5T的磁场下).X射线光电子能谱(XPS)的结果表明薄膜体系中Pr离子的价态为+4价,因此该薄膜很可能是电子掺杂的庞磁电阻体系. The oxide La1-xPrx MnO3 ( x = 0.1, 0.2) thin film showing colossal magnetoresistance has been epitaxially grown on (100) SrTiO3 single-crystal substrate by pulsed-laser deposition. The films have a perovskite structure and perform the colossal magnetoresistance effect with the maximum magnetoresistance ratio of 95 % under the magnetic field of 5 T. The valence of Pr is confirmed as + 4 through XPS. Therefore the epitaxial film is most likely an electron-doped colossal magnetoresistance fihn.
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期1441-1446,共6页 Acta Physica Sinica
关键词 脉冲激光沉积 La1-xPrxMnO3 电子掺杂 庞磁电阻 pulsed laser deposition (PLD), La1-xPrx MnO3 , electron-doped, colossal magnetoresistanee
  • 相关文献

参考文献24

  • 1Mandal P, Das S 1997 Phys. Rev. B 56 15073.
  • 2Raychaudhuri P, Mukheriee S, Nigam A K et al 1999 J. Appl.Phys. 86 5718.
  • 3Mitra C, Raychaudhuri P, John J et al 2001 J. Appl. Phys. 89 524.
  • 4谈国太,陈正豪,章晓中.钙钛矿锰氧化物La_(1-x)Te_xMnO_3(x=0.04,0.1)的两类磁电阻现象[J].物理学报,2005,54(1):379-383. 被引量:14
  • 5Duan K Tan G T, Dai S Y et al 2003 Z Phys. : Condens. Matter 15 4469.
  • 6段苹,谈国太,戴守愚,陈正豪,周岳亮,吕惠宾.钙钛矿结构La_(0.9)Sb_(0.1)MnO_3的庞磁电阻性质[J].物理学报,2003,52(8):2061-2065. 被引量:17
  • 7Mitra C, Raychaudhuri R Kobernik Get al 2001 Appl. Phys. Lett.79 2408.
  • 8Mitra C, Raychaudhuri P, Dorr K et al 2003 Phys. Rev Lett. 90 017202.
  • 9Zhang S X, Luan L, Tan S et al 2004 Appl. Phys. Lett. 84 3100.
  • 10Joseph Joly V L, Joy PA, Date S K 2002 J. Magn. Magn.Mater. 247 316.

二级参考文献25

  • 1蔡建旺,赵见高,詹文山,沈保根.磁电子学中的若干问题[J].物理学进展,1997,17(2):119-149. 被引量:49
  • 2Shreekala R et al 1997 Appl. Phys. Lett. 71 282.
  • 3Li X W et al 1997 Appl. Phys. Lett. 71 1124.
  • 4Li R W et al 2001 J. Phys.: Condens. Matter 13 141.
  • 5Wang Z H et al 2000 J. Appl. Phys. 87 5582.
  • 6Ziese M 2002 Rep. Prog. Phys. 65 143.
  • 7Rayehaudhuri P et al 1999 Phys. Rev. B 59 13919.
  • 8Balcells L et al 1998 Phys. Rev. B 58 14697.
  • 9Gehardt J R, Roy S and Ali N 1999 J. Appl. Phys. 85 5390.
  • 10TanGT et al 2003 J. Appl. Phys. 935480.

共引文献26

同被引文献12

  • 1Jin S, Tiefel T H, McCormack M et al 1994 Science 264 413
  • 2Moritomo Y, Asamitsu A, Tokura Y 1997 Phys. Rev. B 19 12190
  • 3Bridgrs F, Neumeier J J, Sawatzky G A 2000 Phys. Rev. B 61 R9237
  • 4Cox D E, Iglesias T, Moshopoulou E et al 2001 Phys. Rev. B 64 024431
  • 5Tomioka Y, Asamitsu A, Kuwahara H et al 1996 Phys. Rev. B 53 R1689
  • 6Zhou Q L, Zhao, Jin K J et al 2005 Appl. Phys. Lett. 87 172510
  • 7Tan G T, Dai S Y, Duan P et al 2003 Phys. Rev. B 68 014426
  • 8Lu H B, Yang G Z, Chen Z H et al 2004 Appl. Phys. Lett. 84 5007
  • 9Lu HB, Jin K J, Huang Y H et al 2005 Appl. Phys. Lett. 86 241915
  • 10Jin K J, Lu H B, Zhou Q L et al 2005 Phys. Rev. B 71 184428

引证文献2

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部