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立方氮化硼薄膜研究进展 被引量:1

PROGRESS IN STUDIES ON CUBIC BORON NITRIDE FILMS
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摘要 介绍了国内外立方氮化硼薄膜的制备技术、性质表征、生长机制及其应用等研究的新进展,并展望了它的发展前景。 In this paper,we have reviewed the recent developments of cubic boron nitride films in the deposition methods,properties characterization,growth mechanism and the applications,and also looked into the future of the development.
机构地区 兰州大学物理系
出处 《真空科学与技术》 CSCD 1995年第6期407-414,共8页 Vacuum Science and Technology
关键词 立方氮化硼 薄膜 化学气相沉积 物理气相沉积 c-BN film,CVD,PVD,Growth mechanism
  • 引文网络
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献1

  • 1田民波,薄膜科学与技术手册.下,1991年

共引文献6

同被引文献12

  • 1Shih H C,Solid Films,1993年,236卷,1/2期,103页
  • 2王英华,X光衍射技术基础(第2版),1993年
  • 3Guo H,Thin Solid Films,1992年,212卷,173页
  • 4Wei W,Material Science Engineering A,1991年,140期,419页
  • 5田民波,薄膜科学与技术手册.上,1991年
  • 6Chen Kai,Proceeding of the International Conference on Surface Science and Engineering,1995年
  • 7Dong H,Proceedings of the International conference on Surface Science and Engineering,1995年
  • 8Li Li,Proceedings of the International conference on Surface Science and Engineering,1995年
  • 9Liu Huimin,Proceedings of the International conference on Surface Science and Engineering,1995年
  • 10李晓青,表面工程,1995年,3期,18页

引证文献1

二级引证文献9

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