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铁电薄膜研究动向

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摘要 我们出席了在旧金山召开的美国材料研究学会1996年春季年会(MRS 1996 SpringMeeting)。铁电薄膜分会是30个分会之一,接受论文约120篇,其中特邀报告约25篇。主要讨论了以下几个专题。1 高介电常数薄膜在DRAM中的应用这一专题的报告有11篇,所关注的主要材料是srTiO3(ST),Bal-xSrxTiO3(BST)。
出处 《国际学术动态》 1996年第8期52-53,共2页 International Academic Developments
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