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用化学气相沉积法由烷氧化铋制备铁电薄膜
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摘要
化学气相沉积被用来在加热的底物上通过分解一些氧化物的前体而在该底物表面上形成氧化铋、氧化锶和氧化钽的薄膜。氧化铋的前体是一种铋的络合物,它包含至少一个烷氧基并且可在低于450℃的温度条件下分解和沉积。用低温CVD方法获得的氧化铋、锶、钽的薄膜主要是徘铁电性的薄膜,但可通过后续的加热过程而转化成铁电性薄膜。
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
2008年第2期13-13,共1页
Surface Technology
关键词
化学气相沉积法
铁电薄膜
氧化铋
制备
加热过程
温度条件
氧化钽
氧化锶
分类号
O613.71 [理学—无机化学]
TN304.9 [电子电信—物理电子学]
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