两次曝光模拟HDR效果
摘要
通过混合曝光的方式模拟HDR效果,对过曝的天空和欠曝的地面图像来说,只需各取所长,就能得到最佳结果。
出处
《影像视觉》
2009年第11期69-69,共1页
Image Materials
-
1郑英奎,刘明,和致经,吴德馨.0.1μmT型栅PHEMT器件[J].Journal of Semiconductors,2001,22(4):476-480. 被引量:5
-
2任海军.五彩缤纷的“礼花”[J].影像材料,2003(2):38-38.
-
3潘志峰,刘保良,刁振琦,李云涛,饶凤飞,张建民,陈长青,唐伟跃.两次曝光全息摄影的实验研究[J].河南机电高等专科学校学报,2012,20(5):14-15.
-
4刘明,陈宝钦,刘小伟,尉林鹏,吴德馨.电子束和接触式曝光机的匹配和混合曝光(英文)[J].功能材料与器件学报,2000,6(4):416-419. 被引量:1
-
5J.Provoost,A.Miller,M.Maenhoudt.降低双重图形光刻的成本[J].集成电路应用,2008,25(11):37-38. 被引量:1
-
6郑英奎,和致经,吴德馨.深亚微米栅HFET器件工艺研究[J].功能材料与器件学报,2000,6(3):193-196.
-
7李献杰,曾庆明,徐晓春,刘伟吉,敖金平,王全树,杨树人,赵方海,柯锡明,王志功,刘式墉,梁春广.1.55μm光发射OEIC技术研究[J].半导体光电,2002,23(1):23-25. 被引量:1
-
8电子工艺[J].电子科技文摘,2000(6):33-34.
-
9陈建文,朱佩平,肖体乔,王之江.电子全息术再现中的若干问题[J].光学学报,1993,13(4):330-334.
-
10汪辉.22纳米节点的光刻方案之争[J].集成电路应用,2006,23(10):38-38.