电真空设备上几种特殊金属材料锻造
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1Mercury^(TM)1500V数字输出编码器 美国MicroE Systems公司[J].传感器世界,2013(6):51-51.
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2Edwards在SEMICON China2012展会上展示先进真空技术[J].半导体技术,2012,37(4):327-327.
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3伊藤隆生.(日本)电子产品成膜技术的动向[J].真空,1998(3):1-10. 被引量:3
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4王颖佩,Allister Watson,汤杰,Kirel Tang.用于平板显示制造中的真空设备——BOC Edwards特有的模块组合系统[J].电子工业专用设备,2006,35(12):68-69.
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5京运通真空设备厂研制的8英寸硅单晶炉成功地生长出太阳能级硅单晶[J].半导体技术,2004,29(5):117-117.
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6江兴.我国自行研制的8英寸硅单晶炉成功地生长出太阳能级硅单晶[J].半导体信息,2004,0(5):19-19.
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7大尺寸OLED或将在2020年实现喷墨打印[J].网印工业,2016,0(11):61-61.
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8Edwards在SEMICONChina2012展会上展示先进真空技术[J].电子世界,2012(7):7-7.
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9冯晓彤.淄博真空设备厂有限公司喜迎建厂五十周年华诞[J].石油和化工设备,2009,12(9):62-62.
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10Carter M. Armstrong.探索终极真空管[J].科技纵览,2015,0(12):26-31.
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