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半导体工业的异物检测技术 被引量:1

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摘要 半导体集成电路的图样越来越微细化。目前为了16MDRAM已开发了0.5μmLSI,而且还开始了准备用于64MDRAM的0.3μm以下的LSI的研究。在生成这样微细的图样时。
作者 陈幼松
机构地区 北京理工大学
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1990年第1期15-15,共1页 Semiconductor Technology
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