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金刚石膜的生长特性及界面结构研究 被引量:2

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摘要 众所周知,金刚石具有优异的电学、热学及机械特性,气相合成金刚石方法作为一种新的金刚石合成技术具有广阔的发展前景。目前用各种化学气相沉积(CVD)方法已合成出了具有不同用途的金刚石膜。随着气相合成金刚石薄膜制备与应用研究的发展,人们在气相合成金刚石薄膜的机理研究和物性研究方面作了许多工作。
出处 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第3期182-184,共3页 Chinese Science Bulletin
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  • 相关文献

参考文献1

  • 1金曾孙,吉林大学自然科学学报,1989年,65卷,1099页

同被引文献2

  • 1于三,Chin Phys Lett,1991年,4期,203页
  • 2Seiichiro Matsumoto,Yoichiro Sato,Masayuki Tsutsumi,Nobuo Setaka. Growth of diamond particles from methane-hydrogen gas[J] 1982,Journal of Materials Science(11):3106~3112

引证文献2

二级引证文献2

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