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金刚石膜的生长特性及界面结构研究
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摘要
众所周知,金刚石具有优异的电学、热学及机械特性,气相合成金刚石方法作为一种新的金刚石合成技术具有广阔的发展前景。目前用各种化学气相沉积(CVD)方法已合成出了具有不同用途的金刚石膜。随着气相合成金刚石薄膜制备与应用研究的发展,人们在气相合成金刚石薄膜的机理研究和物性研究方面作了许多工作。
作者
于三
金曾孙
吕宪义
邹广田
机构地区
吉林大学原子与分子物理研究所
出处
《科学通报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第3期182-184,共3页
Chinese Science Bulletin
关键词
薄膜
金刚石
生长特性
界面结构
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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参考文献
1
1
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同被引文献
2
1
于三,Chin Phys Lett,1991年,4期,203页
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