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电子特气在低温干法刻蚀中的应用与发展

Application and Development of Electronic Specialty Gases in Cryogenic Dry Etching
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摘要 介绍了低温干法刻蚀技术的技术原理、应用和进展,探讨了不同刻蚀气体和工艺参数对低温干法刻蚀工艺的影响。 The technical principle,application and technical progress of cryogenic dry etching technology has been introduced,and the influence of different etching gases and process parameters on cryogenic dry etching process is discussed.
作者 陈润泽 花莹曦 张建伟 倪珊珊 吝秀锋 李欣 孙加其 王佳佳 CHEN Runze;HUA Yingxi;ZHANG Jianwei;NI Shanshan;LIN Xiufeng;LI Xin;SUN Jiaqi;WANG Jiajia(PERIC Special Gases Co.,Ltd.,Handan 056107,China)
机构地区 中船(邯郸)派瑞特种气体股份有限公司
出处 《低温与特气》 CAS 2023年第2期11-16,共6页 Low Temperature and Specialty Gases
关键词 低温干法刻蚀 反应离子刻蚀 电子特气 cryogenic dry etching reactive ion etching electronic specialty gases
分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学] TN405.982 [电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 相关文献

参考文献7

二级参考文献32

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共引文献44

低温与特气
2023年 第2期

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