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脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用 被引量：9

Pulsed Laser Deposition and Its Application in Magnetic Films
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摘要 脉冲激光沉积制膜(PLD)是近年来迅速发展起来的制膜新技术,首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用,最后说明了该技术的最新发展趋势。 The pulsed laser deposition is a new technique for the growth of thin films.Its physical principle and unique characteristics and research progress in this area are introduced briefly.Preparation of magnetic films by PLD is also described.
作者 邓联文 江建军 何华辉
机构地区 华中科技大学电子科学与技术系
出处 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第2期66-68,共3页 Materials Reports
关键词 脉冲激光沉积技术 制备 磁性薄膜 外延生长 超晶格 成膜机理 pulsed laser deposition,magnetic film,epitaxial growth,superlattlce
分类号 TM27 [一般工业技术—材料科学与工程] TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
  • 相关文献

参考文献28

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二级参考文献1

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共引文献10

同被引文献120

引证文献9

二级引证文献34

材料导报
2003年 第2期

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