半导体制造中的电子显微分析

集成电路的特征尺寸越来越小,电子显微分析在微电子制造中成为不可缺少、不可替代的重要分析手段。本文根据扫描电子显微镜(SEM)及透射电子显微镜(TEM)在实际分析中的特长与局限,主要就仪器分辨率与结果的精确度的问题,讨论如何将两种分析技术有机地结合起来,扬长避短,取得最佳效果。