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我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展 被引量:5

Actuality and development of ultra-clean and high purechemical reagents and photoresists in China
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摘要 根据集成电路等制作技术不同发展阶段对超净高纯试剂和光刻胶的不同要求,阐述了国内外超净高纯试剂和光刻胶的现状、应用及发展状况等。 The actuality, application and development of ultra-clean and high pure chemicalreagents and photoresists used for the micro-electronic industries in China and in other countriesare reviewed, according to the requests of ultra-clean and high pure chemical reagents and photore-sists for the facture technology of integrate circuit in different fields.
作者 曹立新
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第12期12-16,21,共6页 Semiconductor Technology
关键词 集成电路 超净高纯试剂 光刻胶 现状 电子化工材料 ultra-clean and high pure chemical reagents photoresists actuality development
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参考文献12

二级参考文献4

  • 1穆启道 孙世铭 等.电子化学品(超净高纯试剂部分)[M].北京:化学工业出版社,2001.3.
  • 2-.SEMI国际标准超净高纯试剂部分[M].北京:中国标准出版社,1992.4.
  • 3孙世铭 穆启道.化工材料咨询报告(微电子材料部分)[M].北京:中国石化出版社,1999.8.
  • 4穆启道.超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术[J].化学试剂,2002,24(3):142-145. 被引量:32

共引文献47

同被引文献40

引证文献5

二级引证文献35

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