摘要
综述了掺铝氧化锌(AZO)薄膜制备方法与光电特性,重点阐述了磁控溅射法制备工艺参数如衬底温度、溅射功率、气体压强、溅射时间、衬底和靶间距、负偏压等对AZO薄膜结构、光电性能的影响,并指出目前AZO薄膜的研究关键以及所面临的挑战,展望了未来的研究方向。
The preparation technology and opto-electrical properties of AZO thin films are reviewed. The in- fluences of magnetron sputtering parameters such as substrate temperature, sputtering power, gas pressure, sputtering time, distance between substrate and target, negative bias and so on on the structural and opto-electrical properties of AZO thin films are summarized. Moreover, the key problems and the challenges of the present researches are discussed and the possible future developments are given.
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第1期35-39,共5页
Materials Reports
基金
中央高校基本科研业务费专项资金(SWJTU09BR155)
国际自然科学基金(50588201
50872116)
国家高科技项目(863)(2007AA03Z203)
高等学校博士点专项科研基金(SRFDP200806130023)
长江学者与创新团队计划(IRT0751)
关键词
AZO
结构特性
光电特性
AZO, structural properties, opto-elecuical properties
