期刊文献+

集成电路制造行业挥发性有机物(VOCs)减排措施研究

下载PDF
导出
摘要 研究集成电路制造行业主要的挥发性有机物(VOCs)排放源及VOCs主要成分,并针对VOCs源头、过程控制与末端治理,提出切实有效的减排措施建议,为集成电路生产企业VOCs治理研究提供参考。
作者 付笃
出处 《科技风》 2017年第24期106-107,共2页
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献16

  • 1聂磊,蔡坚,贾松良,王水弟.微电子封装中等离子体清洗及其应用[J].半导体行业,2005(6):63-66. 被引量:3
  • 2张塍.等离子清洗的应用与技术研究[J].电子工业专用设备,2006,35(6):21-27. 被引量:11
  • 3[1]Arriaga-Colina,J.L.,West J.Jason,et al.Measurements of VOCs in Mexico City(1992 -2001) and evaluation of VOCs and CO in the emissions inventory.Atmospheric Environment,2004,38:2523-2533.
  • 4[2]Atkinson,Roger.Atmospheric chemistry of VOCs and NOx,Atmospheric Environment,2000,34:2063-2101.
  • 5[3]Pankow,James F.; Luo,Wentai; Bender,David A.; et al.Concentrations and co-occurrence correlations of 88 volatile organic compounds (VOCs) in the ambient air of 13 semi-rural to urban locations in the United States.Atmospheric Environment,2003,37:5023-5046.
  • 6[4]2005年中国半导体产业研究报告[R].水清木华研究中心,2006.
  • 7[5]National Emition Standards of Hazardars Air Pollutants for Source Category Manufacture of Semiconductors.USEPA Office of Air Quality Planning and Standards.2001.2.
  • 8[2]U SEPA.National Emission Standards for Hazardous Air PoUutants(NESHAP)for Source Category:Manufacture of Semiconductors(Final Rule),40 CFR Part 63,2003.
  • 9GB16297-1996.大气污染物综合排放标准[S].[S].,..
  • 10郝吉明 马广大.大气污染控制工程[M].北京:高等教育出版社,1998..

共引文献18

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部