摘要
ASML首席财务官Roger Dassen近日接受了荷兰当地媒体Bits&Chips的采访。在采访中,Dassen回应了分析机构Semi Analysis的质疑,表示HighNA(高数值孔径)EUV(极紫外光)光刻机仍是未来最经济的选择。Semi Analysis之前刊发文章,认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量,从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着,相较于沿用现有的0.33NA EUV光刻机并搭配多重曝光,引入High-NA在近期不会带来成本优势。
出处
《世界电子元器件》
2024年第2期25-25,共1页
Global Electronics China
