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光刻机运动台系统建模与优化 被引量:2

Simulation and Parameter Optimization of Wafer Stage in Lithography
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摘要 根据运动台的结构模型,提出运动台系统建模与优化方法,并将建模仿真结果与实际测试结果进行比对。结果表明仿真模型基本上能体现运动台系统的结构动态特性,从而验证仿真模型的准确性。 According to the structure model of the motion table,this paper puts forward the modeling and optimization method of the motion table system,and compares the simulation results with the actual test results.The results show that the simulation model can basically reflect the structural dynamic characteristics of the motion platform system,so as to verify the accuracy of the simulation model.
作者 陈文枢 CHEN Wenshu(Shanghai Micro Electronics Equipment(Group)Co.,Ltd,Shanghai 201203,China)
出处 《电子技术(上海)》 2019年第1期44-46,共3页 Electronic Technology
基金 上海市高科技企业技术创新课题项目.
关键词 集成电路制造设备 光刻机 运动台 系统建模 integrated circuit manufacturing equipment lithography machine motion table system modeling
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献6

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  • 2赵建卫.虚拟样机设计与仿真环境研究[M].西安:西北工业大学航天工程学院,1999..
  • 3赵建卫,学位论文,1999年
  • 4熊光楞,先进仿真技术与仿真环境,1997年
  • 5汪成为,灵境(虚拟现实)技术的理论、实现及应用,1996年
  • 6唐硕,控制系统分析、设计与仿真CAD系统 .航空系统仿真论文集,1995年

共引文献9

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