高纯铜的制备技术及市场应用现状

高纯铜作为半导体产业链上游靶材制备环节的关键原材料,主要制备方法分为电解精炼法、区域熔炼提纯法、真空熔炼定向凝固提纯,除用于制备高纯分析标准试料、电子工业各种连接线、电子封装用键合线、高品质音频线、集成电路、液晶显示器、溅射靶材及离子镀膜等高技术领域外,还是原子能、火箭、导弹、航空、宇宙航行以及冶金工业中不可缺少的材料。