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真空灭弧室发展分析

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摘要 阐述了真空灭弧室的发展历史及现状,对决定真空灭弧室发展的4个关键技术:触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造技术进行了分析,同时对真空灭弧室的发展趋势作了介绍。
机构地区 大连理工大学
出处 《电气制造》 2006年第11期17-19,共3页
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