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真空灭弧室发展分析
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摘要
阐述了真空灭弧室的发展历史及现状,对决定真空灭弧室发展的4个关键技术:触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造技术进行了分析,同时对真空灭弧室的发展趋势作了介绍。
作者
刘顺新
丛吉远
廖敏夫
董华军
机构地区
大连理工大学
出处
《电气制造》
2006年第11期17-19,共3页
关键词
真空灭弧室
电压等级
开断电流
纵向磁场
Ta
波纹管
钢管
触头材料
分断能力
分类号
TM561.5 [电气工程—电器]
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电气制造
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