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射频无线应用的体连接和图形化SOI LDMOSFET的比较

Comparison of Body-Contact and Patterned-SOI LDMOSFETs for RF Wireless Applications
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摘要 设计并制作了一种可应用于无线通信放大器的新型的图形化SOI LDMOSFET.该器件沟道下方的埋氧层是断开的.测试表明,输出特性曲线没有发现明显的翘曲效应,关态的击穿电压达13V,在VG=4V和VD=3.6V时fT为8GHz,直流和射频性能均优于同一芯片上相同工艺条件制备的体接触LDMOSFET.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期32-35,共4页 半导体学报(英文版)
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参考文献8

  • 1[2]Matsumoto S,Hiraoka Y,Sakai T.A high-efficiency thinfilm SOI power MOSFET having a self-aligned offset gate structure for multi-gigahertz applications.IEEE Trans Electron Devices,2001,48(6):1270
  • 2[3]Murari B,Bertotti F,Vignola G A.Smart power ICs.SpringVerlag,1996
  • 3[4]Fiorenza J G,Antoniadis D A.RF power LDMOSFET on SOI.IEEE Electron Device Lett,2001,22(143):139
  • 4[5]Matasumoto S,Hiraoka Y,Sakai T.Radio-frequency performance of a state-of-art 0.5μm-rile thin film SOI power MOSFET.IEEE Trans Electron Devices,2001,48(6):1251
  • 5[6]Fiorenza J G,Del Alamo J A.Experimental comparison of RF power LDMOSFETs on thin-film SOI and bulk silicon.IEEE Trans Electron Devices,2002,49(4):687
  • 6[7]Ren Changhong,Cai Jun,Liang Y C,et al.The partial silicon-on-insulator technology for RF power LDMOSFET devices and on-chip microinductors.IEEE Trans Electron Divices,2002,49(12):2271
  • 7[8]Park J M,Grasser T,Kosina H,et al.A numerical study of partial-SOI LDMOSFETs.Solid-State Electron,2003,(47):275
  • 8[9]Dong Yemin,Wang Xi,Wang Xiang,et al.Low defect density and planar patterned SOI materials by masked SIMOX.Chem Phys Lett,2003,378:470

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