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集成抗ESD二极管的SOI LIGBT/LDMOS器件结构及其制作方法 被引量:5

Device Structure and Fabricating Method for SOI LIGBT/LDMOS Integrated with Anti-ESD Diode
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摘要 为探索与国内VLSI制造工艺兼容的新型SOI LIGBT/LDMOS器件与PIC的设计理论和工艺实现方法,首次提出含有抗ESD二极管的集成SOI LIGBT/LDMOS器件截面结构和版图结构,并根据器件结构给出了阻性负载时器件的大信号等效电路.探讨了该结构器件的VLSI工艺实现方法,设计了工艺流程.讨论了设计抗ESD二极管相关参数所需考虑的主要因素,并给出了结构实现的工艺控制要求.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期279-282,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金(批准号:60306003)及浙江省自然科学基金(批准号:y104599)资助项目
  • 相关文献

参考文献3

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引证文献5

二级引证文献2

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