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微扰和标定技术测量薄膜微波介电常数

Newly Developed Technique for Permittivity Measurement of Thin Film by Perturbation
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摘要 提出了一种测量介质薄膜微波段介电常数的方法.该方法基于金属空腔谐振器微扰理论,用已知介电常数的基片作为标样,标定测量系统的有关参数,然后分别测量空腔、基片插入空腔、镀有介质薄膜的基片插入空腔三种情况下的谐振腔谐振频率,计算出镀覆于基片上介质薄膜的微波复介电常数.本文SiO2和MgTiO3-CaTiO3(MCT)介质陶瓷薄膜作了实验测量验证,结果表明该方法具有良好的测量精度(小于6%).
作者 董树荣 王德苗 金浩
机构地区 浙江大学信息学院信电系
出处 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期20-22,共3页 Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基金 国家自然科学基金项目(No.50172042)
关键词 介质薄膜 介电常数 测量 谐振腔 微扰
分类号 O484.5 [理学—固体物理]
  • 相关文献

参考文献11

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二级参考文献3

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  • 3匿名著者

共引文献7

真空科学与技术学报
2006年 第z1期

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