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直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究

Structural and Electrical Properties of ZnO Thin Film by DC Magnetron Sputtering
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摘要 本文采用直流反应磁控溅射方法在平面玻璃上制备了ZnO薄膜.所得的ZnO薄膜利用X光衍射,扫描电子显微镜和原子力显微镜进行分析和表征.实验结果表明,ZnO薄膜的结构和电学性质与合成条件密切相关.并测试了ZnO薄膜的温差电动势,得出薄膜中的载流子浓度越大,温差电动势率越小;ZnO薄膜厚度越大,温差电动势率越小.本文对其结果进行了理论分析.
作者 李丽 方亮 廖克俊 刘高斌 杨丰帆 付光宗
机构地区 重庆大学应用物理系
出处 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期86-89,共4页 Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基金 重庆大学研究生创新基金(No.200506Y1B0240131) 重庆市科技攻关项目(No.CSTC2005AA4006-A6) 重庆大学数理学院青年基金资助
关键词 ZNO薄膜 磁控溅射 温差电动势率 载流子浓度
分类号 TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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真空科学与技术学报
2005年 第z1期

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