摘要
电子产品高集成度与高性能化的发展,对超精表面和亚表面无损伤性要求越来越高。为了检测纳米尺度的表面微划痕,基于原子力显微镜思想,选用硅微探针工作在轻敲模式,通过外差干涉测量振幅变化,z向反馈实现微划痕成像,构建了一套微划痕检测实验系统。初步实验表明:检测系统达到了纳米级精度,满足了划痕检测性能要求。
In order to test scratch at nano-scale,a new test system basing the idea of AFM is presented. Silicon probe is used to work in tapping mode, and the heterodyne interferometry is applied to get the variety of amplitude. The feedback of Z axis motion is the image of scratch. Experiment on grating shows that the system meets the precision of nanometer and the need of nano-scratch testing.
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第z1期239-240,共2页
Chinese Journal of Scientific Instrument
基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)(2003CB716201)资助项目子课题
