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低温退火对稀磁半导体(Ga,Mn)As性质的影响 被引量:1

Enhancement of Ferromagnetic Transition Temperature in (Ga, Mn) As by Post-Growth Annealing
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摘要 利用低温分子束外延技术在GaAs(001)上外延生长出厚度为500nm的稀磁半导体(Ga,Mn)As薄膜.双晶X射线衍射证明其为闪锌矿结构,晶格参数为0.5683nm,据此推导出其Mn含量为7%.磁测量结果揭示其铁磁转变温度为65K.观察了低温退火处理对(Ga,Mn)As磁性质的影响,发现生长后退火处理显著提高了其铁磁转变温度,可以达到115K.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期42-44,共3页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金重点项目(批准号:10334030),国家重点基础研究专项(批准号:2001CB3095)和留学回国人员科研启动基金资助项目
  • 相关文献

参考文献7

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同被引文献29

引证文献1

二级引证文献6

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