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InP/InGaAs SHBT器件自对准结构设计和工艺实现

Design and Process for Self-Aligned InP/InGaAs SHBT Structure
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摘要 从InP湿法腐蚀各向异性特性实验出发,利用传统的基极-发射极自对准工艺和改进的基极-发射极工艺制作了两种InP/InGaAs SHBT自对准结构,比较了两种自对准工艺对减小基极与发射极台面间距的效果,为制作高频率特性InP/InGaAs SHBT提供了工艺途径.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z1期136-139,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家高技术研究发展计划资助项目(批准号:2002AA312040)
  • 相关文献

参考文献4

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