摘要
研究了以ITO膜为掩膜的玻璃微芯片的制作方法和玻璃-玻璃键合技术,并详细讨论了腐蚀条件对掩膜的性能、玻璃的蚀刻速率和微通道表面形貌的影响.总结出了该制作方法与传统玻璃芯片的制作方法相比具有的特点和优势.开发出了一种成本低且简易的玻璃芯片制作方法.
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第z1期45-46,共2页
Chemical Journal of Chinese Universities
基金
国家"八六三"计划项目(批准号:2001AA630503)和中国科学院"百人计划"资助.