摘要
综述了绝缘层上的硅(SOI)材料在高压器件中的应用,分析了SOI高压器件的不同结构,并对现在最常用的RESURF LDMOS高压器件结构,以及不同器件参数对击穿电压的影响进行了分析和讨论.
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第z1期983-987,共5页
Journal of Functional Materials
基金
国家重点基础研究专项经费(G20000365)
国家自然科学基金资助项目(90101012)
上海市科技发展基金资助项目(0252nm084和0359nm004)