Pt/Au/p-Si溅射薄膜组织结构特征

Structure of Pt/Au/p-Si Films prepared by sputtering

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摘要在p-Si衬底上,分别淀积5 nm Au膜和5nmPt膜,形成Pt/Au/p-Si结构,500℃退火后形成硅化物薄膜.采用X射线光电子谱和X射线衍射谱研究薄膜成分和相分布,利用原子力显微镜和高分辨电子显微镜观察薄膜表面形貌和界面结构.测试结果表明,薄膜中含有PtSi相和Au相,表面较平坦,PtSi相形成层状结构,Au原子聚集成岛状结构.

作者殷景华蔡伟王明光郑玉峰赵连城

机构地区哈尔滨理工大学

出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1068-1070,共3页 Journal of Functional Materials

关键词 Pt/Au/p-Si 薄膜硅化物分布表面和界面结构

分类号 TN304 [电子电信—物理电子学]

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