期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息

R.F.磁控溅射生成的氧化钨薄膜的性能 被引量：2

The behaviors of tungsten oxide thin films prepared by r.f. magnetic sputter
下载PDF
导出
摘要 由于薄膜沉积过程中缺乏氧气,溅射得到的是化学配比偏离WO3的氧化钨薄膜,本文详细研究了不同电压下,R.F磁控溅射生成的不同化学配比的氧化钨薄膜的伏安循环特性;发现它们在一定电压范围内(1.15V到2.8V)都可产生着色现象.着色后对光的吸收是一致的.光的透过率显示电压超过某一值后,膜的变色能力减弱并消失.XRD显示本文所得氧化钨薄膜主要是非晶态的结构.
作者 李竹影 宋玉苏 刘祖黎 姚凯伦
机构地区 华中科技大学物理系 海军工程大学文理学院
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1447-1449,共3页 Journal of Functional Materials
关键词 氧化钨薄膜 电致变色 r.f.磁控溅射
分类号 O484 [理学—固体物理]
  • 相关文献

参考文献6

  • 1[1]Electromic tungsten oxide films: Review of Progress 1993-1998, [J]. Solar Energy Mater Solar Cell, 2000, 60:201-262.
  • 2[2]Recent Advances in Electrochromics for Smart Windows Applications. [D]. Solar Energy 1998, Vol.63(4): 199-216.
  • 3[3]Sputter deposited cerium-vandium oxide: optical characterization and electrochromic behavior. [J].Electrochimica Acta, 2001, 46: 2085-2090.
  • 4[4]High-rate dual-target d.c. magnetron sputter deposition of electrochromic MoO3 films [J]. Thim Solid Films, 1997,295: 117-121.
  • 5[5]High-rate dual-target DC magnetron sputter deposition of "blue "electrochromic Mo oxide films. [J]. Solar Energy Materials and Solar Cells, 1998, 53: 349-356.
  • 6[6][日]金原粲.薄膜的基本技术.[M].北京:科学出版社,1982.

同被引文献2

引证文献2

二级引证文献9

功能材料
2004年 第z1期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部