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基片上薄膜生长过程的计算机模拟

Computer simulation of growth for thin film on substrate
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摘要 根据薄膜的成核统计理论,考虑吸附粒子的碰撞、迁移、蒸发等因素,针对薄膜单层和多层核生长类型的生长,用计算机进行仿真模拟.同时研究了几种因素对粒子沉积成膜的影响.根据计算机模拟情况,得出了粒子百分变化与成团粒子百分变化关系、生长过程对粒子沉积成膜的影响.论证了按成核理论下的随机统计规律生成的多层粒子膜,其厚度方面的不均匀性与实际是一致的.并给出了计算机模拟研究薄膜微观生长过程的立体图象.
作者 刘昌辉 何华辉
机构地区 华中科技大学
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3010-3014,共5页 Journal of Functional Materials
关键词 薄膜生长 沉积 计算机模拟
分类号 O411.3 [理学—理论物理]
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共引文献5

功能材料
2004年 第z1期

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