PCVD法制备硅系纳米复合薄膜材料

Preparation of Si-basednano-composite film materials by PCVD

下载PDF

导出

摘要纳米复合薄膜材料由于具有传统复合材料和现代纳米材料两者的优点,成为重要的前沿研究领域之一.其中半导体纳米复合材料,尤其是硅系纳米复合薄膜,由于具有独特的光电性能,加之与集成电路相兼容的制备技术,有着广泛的应用前景.近年来关于纳米复合薄膜的研究不断深入,但仍有许多问题没有完全解决.本文围绕硅系纳米复合薄膜的材料特点,说明了等离子体化学气相沉积(PCVD)技术的工作原理和装置结构,以及该技术在硅系纳米复合薄膜制备中的独特优点.并以氮化硅薄膜为重点,介绍纳米复合薄膜材料的PCVD制备技术.文章最后对硅系纳米复合薄膜的在光电技术等各个领域的应用前景做了一些展望.

作者贾嘉

机构地区中国科学院上海技术物理研究所

出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3201-3204,共4页 Journal of Functional Materials

关键词 PCVD制备技术硅系材料纳米复合薄膜

分类号 O484.1 [理学—固体物理]

引文网络
相关文献

参考文献2

1韩高荣,汪建勋,杜丕一,张溪文,赵高凌.纳米复合薄膜的制备及其应用研究[J].材料科学与工程,1999,17(4):1-5. 被引量：28
2周海,吴大兴,杨川,高国庆.DC-PCVD法快速制备Si_3N_4薄膜[J].硅酸盐学报,1997,25(4):489-493. 被引量：5

二级参考文献11

1吴大兴，硅酸盐学报，1992年，20卷，3期，24页
2Zhu Yi，Proc Japan-China Bilateral Sympo Advanced materials Engineering for Novel Methods for Preparation and Evaluation of Coatings，1999年，135页
3韩伟强，半导体学报，1996年，17卷，406页
4韩伟强，硅酸盐学报，1996年，24卷，333页
5韩伟强，太阳能学报，1996年，17期，87页
6韩伟强，真空科学与技术学报，1996年，16卷，438页
7Zhang Q，Appl Phys Lett，1995年，66卷，1977页
8He Y，Chin Phys Lett，1993年，10卷，539页
9Han W，MRS，1993年，297卷，381页
10Han W，Chin Sci Bull，1996年，41卷，1139页

共引文献31

1方静华,胡永茂,李茂琼,陈秀华,项金钟,吴兴惠.纳米材料的新进展[J].云南大学学报（自然科学版）,2002,24(S1):38-42. 被引量：1
2贾嘉.溅射法制备纳米薄膜材料及进展[J].半导体技术,2004,29(7):70-73. 被引量：16
3韩永生,聂柳慧.纳米二氧化钛保鲜薄膜的保鲜机理和制备[J].株洲工学院学报,2004,18(5):148-150. 被引量：16
4杨冰之.以信息化扩大公众服务[J].中国计算机用户,2002(46):45-45.
5潘应君,陈淑花,张细菊,吴新杰,陈大凯.刀具表面超晶格TiN/AlN纳米多层膜的制备及性能的研究[J].热加工工艺,2005,34(11):23-25. 被引量：1
6陈淑花,潘应君,陈大凯,张细菊,吴新杰.刀具表面超晶格TiN/AlN纳米多层膜的制备和研究[J].工具技术,2006,40(5):16-19.
7龚朝阳,罗学涛,张颖,程璇,张莹.复合薄膜研究的进展[J].真空,2006,43(5):19-22. 被引量：6
8赵洪力,刘起英,韩冰,蔡永秀,荆天辅,张福成.彩色双层复合镀膜玻璃的在线制备与性能[J].材料研究学报,2006,20(6):647-652. 被引量：2
9潘应君,邓敏,陈淑花,向往,李晓光,吴新杰.多弧离子镀制备TiN/AlN纳米多层膜及其超硬效应[J].武汉科技大学学报,2008,31(3):312-315. 被引量：6
10余京松,钱晓倩,马青松,葛曼珍,孟祥森,杨辉.APCVD法SiH_4-NH_3-CO_2系统制备氧氮玻璃薄膜的研究[J].硅酸盐学报,1999,27(3):365-369. 被引量：5

1王致诚.纳米材料——21世纪最有前途的新材料[J].世界产品与技术,1996(2):18-19. 被引量：1
2王丽,李季,徐仕翀,刘梅,李海波.CoAl_xFe_(2-x)O_4/SiO_2纳米复合薄膜材料的结构和磁性研究[J].吉林师范大学学报（自然科学版）,2016,37(1):28-31. 被引量：1
3一弓.微波PCVD法制备功能梯度薄膜[J].等离子体应用技术快报,1999(8):6-7.
4陈大凯,刘静.等离子体技术在材料中的应用[J].武汉科技大学学报,2001,24(4):345-348. 被引量：1
5张富祥,于文,贺端威,王文魁.压力下Ti_(60)Si_(40)纳米晶的固相反应[J].高压物理学报,1997,11(4):292-295.
6陈远,徐之海,冯华君.基于垂直层叠结构的多光谱彩色传感器研究[J].光谱学与光谱分析,2007,27(5):837-841. 被引量：2
7吕宪春,毛兰山.浅谈建筑施工中混凝土的强度准则[J].黑龙江科技信息,2010(17):221-221.
8谢峻林,邓涛.Structure Characterization of F-doped Silica Glass[J].Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science),2009,24(1):137-139.
9黄卫佳.光学和光学仪器——光学传递函数——测量原理和步骤[J].光学仪器,2008,30(5):90-94. 被引量：1
10金曾孙,姜志刚,白亦真,吕宪义.直流热阴极PCVD法制备金刚石厚膜[J].新型炭材料,2002,17(2):9-12. 被引量：20

功能材料

2004年第z1期

浏览历史

内容加载中请稍等...

PCVD法制备硅系纳米复合薄膜材料

参考文献2

二级参考文献11

共引文献31

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史