大口径镀膜机均匀性的研究被引量：4

Film uniformity characteristic of large caliber coating machine

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摘要对于大口径镀膜机的均匀性特性进行了研究,得到了一组厚度分布曲线,并对曲线进行了分析;利用这些实验结果,运用新理论设计出了具有实用性的修正挡板,均匀性可稳定的达到3‰.

作者董磊方明易葵范瑞瑛邵建达范正修

机构地区中国科学院上海光学精密机械研究所

出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3216-3220,共5页 Journal of Functional Materials

关键词薄膜均匀性修正挡板

分类号 TH74 [机械工程—光学工程]

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参考文献4

1[1]Macleod H A. Thin-Film Optical Filters, 3rd ed [M].England: IOP Publishing, Bristol, 2001,p: 488-522.
2潘栋梁,熊胜明,张云洞,王任华.行星夹具膜厚均匀性计算[J].强激光与粒子束,2000,12(3):277-280. 被引量：23
3[4]Villa F, Martinez A, Luis E. Regalado, "Correction masks for thickness uniformity in large-area films" [J]. Applied Optics, 2000, 39(10): 1602-1610.
4[5]Villa F, Pompa O. "Emission pattern of real vapor sources in high vacuum: an overview" [J]. Appl Opt, 1999, 38:695-703.

二级参考文献1

1顾培夫.稀土—过渡金属薄膜光学常数和磁光常数的椭圆偏振测量[J].薄膜科学与技术,1990,3(3):48-58. 被引量：4

共引文献22

1朱元强.半球透镜膜厚分布分析[J].光学与光电技术,2020,0(1):59-62. 被引量：4
2董磊,赵元安,易葵,邵建达,范正修.不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响[J].强激光与粒子束,2005,17(10):1518-1522. 被引量：14
3方明,郑伟军,吴明,范瑞瑛,易葵,范正修.平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(4):286-289. 被引量：11
4方明,范正修,黄建兵.平面行星夹具的物理气相沉积均匀性计算[J].计算物理,2006,23(6):738-742. 被引量：4
5王长军,熊胜明.大口径光学元件薄膜厚度均匀性修正[J].强激光与粒子束,2007,19(7):1153-1157. 被引量：14
6吕立冬,李新南.用于大尺寸镜面镀膜的热蒸发沉积系统的研究[J].真空,2008,45(2):57-59. 被引量：2
7吕立冬,李新南.大口径镜面镀膜与镀膜系统配置[J].真空,2009,46(2):26-28.
8刘兴悦,戴佳鑫.薄膜均匀性的研究分析[J].科技创新导报,2010,7(9):2-3. 被引量：4
9朱元强.行星夹具膜厚均匀性分析[J].真空,2010,47(5):57-59. 被引量：3
10艾万君,熊胜明.3.6m大口径镀膜机膜厚均匀性分析[J].光电工程,2011,38(11):73-78. 被引量：8

同被引文献22

1杭凌侠 ,Y.Yin .大面积应用的RF-PECVD技术研究[J].真空科学与技术学报,2005,25(3):172-176. 被引量：4
2董磊,赵元安,易葵,邵建达,范正修.不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响[J].强激光与粒子束,2005,17(10):1518-1522. 被引量：14
3熊玉卿.超窄带滤光片制作技术[J].真空与低温,2005,11(3):125-130. 被引量：14
4方明,郑伟军,吴明,范瑞瑛,易葵,范正修.平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(4):286-289. 被引量：11
5秦洁玉,罗崇泰,马勉军.线性渐变滤光片镀制挡板设计[J].真空与低温,2007,13(1):57-62. 被引量：8
6温培刚,颜悦,张官理,望咏林.磁控溅射沉积工艺条件对薄膜厚度均匀性的影响[J].航空材料学报,2007,27(3):66-68. 被引量：22
7Francisco Villa,Amalia Martinez, Luis E Regalado. Correction masks for thickness uniformity in large—area thin film[ J ]. AppliedOptics,2000,39(10) :1602-1610.
8John Arkwright, Ian Underhill, Nathan Pereira, et al. Deterministic control of thin film thickness in physical vapor depositionsystems using a multiaperture mask [ J ]. Optics Express,2005 ,13(7) : 2731-2741.
9薛俊明,侯国付,王凯杰,孙建,任慧志,张德坤,赵颖,耿新华.用VHF-PECVD技术研制大面积均匀硅基薄膜[J].太阳能学报,2007,28(11):1227-1232. 被引量：2
10夏志林,赵元安,黄才华,薛亦渝,杨芳芳,郭培涛.基于平板夹具的电子束蒸发沉积薄膜中的挖坑效应分析[J].真空,2008,45(6):12-16. 被引量：4

引证文献4

1朱元强.半球透镜膜厚分布分析[J].光学与光电技术,2020,0(1):59-62. 被引量：4
2吴伟,王济洲,熊玉卿,王多书.蒸发源位于半球面正下方膜厚分布理论研究[J].真空与低温,2013,19(4):219-223. 被引量：1
3吴伟,王济洲,熊玉卿,王多书,冯煜东.半球形基底镀膜膜厚均匀性理论分析[J].真空科学与技术学报,2014,34(4):320-324. 被引量：12
4樊彦峥,潘永强,刘金泽,张达.热蒸发制备大口径铝膜的膜厚均匀性分析[J].光学与光电技术,2021,19(2):108-114. 被引量：6

二级引证文献17

1朱元强.半球透镜膜厚分布分析[J].光学与光电技术,2020,0(1):59-62. 被引量：4
2徐嶺茂,王济洲,熊玉卿,何延春.倒圆锥面基底蒸发镀膜均匀性理论分析[J].真空与低温,2014,20(6):340-343.
3马森,高俊永.磁化甘蔗汁微滤膜分离过程的膜通量预测模型[J].农业工程学报,2015,31(6):333-337. 被引量：1
4程敏,艾力.伊沙木丁,孙正文,马路,赵斐,许竞.大口径非球面镀膜均匀性分析与修正挡板设计[J].真空科学与技术学报,2017,37(3):250-254. 被引量：5
5来邻,李旸晖,周辉,夏浩盛,刘小煜,夏成樑,王乐.基于原子层沉积的大曲率基底表面薄膜均匀性研究[J].激光与光电子学进展,2018,55(3):454-460. 被引量：3
6李维源,朱蓓蓓,孙权权,陆波,袁航,陈肖,兰洁,许剑锋.基于电子束蒸发沉积的曲面纳米薄膜均匀性研究[J].飞控与探测,2019,2(2):64-70. 被引量：3
7徐嶺茂,王济洲,李坤,王多书,周晖.蒸发镀膜基片工装改进与镀膜均匀性研究[J].真空与低温,2021,27(5):444-448. 被引量：4
8付秀华,王海峰,张静,张功,任仲举,周笑平,杨飞.模压硫系玻璃元件红外增透膜的研制[J].光学学报,2021,41(20):230-239. 被引量：7
9徐嶺茂,何延春,李坤,周晖,熊玉卿.Study on thickness uniformity of Ta_(2)O_(5) film evaporated on the inner-face of a hemispherical substrate[J].Optoelectronics Letters,2021,17(11):673-677.
10孙伟超,许竞,林星魁,艾力·伊沙木丁.光学望远镜镜片旋转镀膜修正挡板的仿真设计[J].表面技术,2022,51(4):342-347. 被引量：1

1张方程,于海利,周敬萱.大尺寸中阶梯光栅铝膜均匀性研究[J].长春工业大学学报,2013,34(2):195-199. 被引量：5
2方明,郑伟军,吴明,范瑞瑛,易葵,范正修.平面行星夹具均匀性修正挡板设计方法研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(4):286-289. 被引量：11
3程操红,林焰,纪卓尚,陆丛红.小水线面双体船型线设计方法研究[J].中国造船,2005,46(2):6-16. 被引量：1

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