溅射沉积法制备金薄膜的结构特性

Microstructure of Au film prepared by sputter deposition

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摘要在不同的生长阶段Au膜具有不同的表面微结构.随着厚度的增加,薄膜晶粒要经历成核、正常晶粒生长和反常晶粒生长过程,在不同的过程中Au膜呈现出不同的表面形貌.在正常晶粒生长阶段,薄膜晶粒呈柱状生长;随后的反常晶粒生长过程中会出现晶粒吸收现象,使具有较优取向的晶粒越长越大.X射线衍射图(XRD)显示Au膜具有(111)面取向优势.利用LSW理论模型计算并解释了晶粒反常生长过程.

作者关博江勇许小亮

机构地区中国科技大学中国科技大学物理系中科院结构分析重点实验室

出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期3238-3242,共5页 Journal of Functional Materials

基金 863项目(2002AA313030) 安徽省人才基金项目(2003Z021)

关键词表面形貌正常晶粒生长反常晶粒生长 LSW理论模型

分类号 O782.9 [理学—晶体学]

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