摘要
本文采用直流磁控反应溅射法,在单晶Si(110),Al/Si,Diamond/Si三种衬底上分别生长出了高度c轴取向的ZnO薄膜.此薄膜具有高质量的纳米级结晶度(10nm～30nm),良好的表面平整度(低于10nm),高于107Ω·cm的电阻率及较高的应力承载性,很好的满足了薄膜声表面波(SAW)器件制备及降低损耗的需要.通过改变工作气压,氩氧比等工艺参数,较系统地探索了ZnO薄膜的制备条件.采用多种分析手段,如X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM),高能反射式电子衍射(RHEED),原子力显微镜(AFM)等对薄膜的微观结构及结晶品质进行了测试分析,并对薄膜的电学性能及机械性能进行了考察.
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第z1期7-13,23,共8页
Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基金
国家863计划资助(No.2002AA325040)和北京市科技项目资助(No.9550310600)
