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石英衬底上的BPxN1-x薄膜沉积及P对其光学带隙调制的研究

Phosphor Induced Optical Band Gap Modulation of BPxN1-x Films
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摘要 以光学石英为衬底,采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BPxN1-X薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结晶状况,以及P元素掺杂对BPxN1-X薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明,所沉积薄膜具有多晶团聚、定向生长的特点,其表面形貌随时间而变化,最后发展成多晶球状密堆成膜,与石英衬底结合牢固.BPxN1-x薄膜的磷元素相对含量随磷烷流量增加而增加,光学带隙相应窄化.通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.
作者 张溪文 徐世友 韩高荣
机构地区 硅材料国家重点实验室
出处 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期24-27,共4页 Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基金 国家自然科学基金(No.60006003)
关键词 BPXN1-X薄膜 磷掺杂 光学带隙
分类号 TN304.2+3 [电子电信—物理电子学]
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共引文献8

真空科学与技术学报
2004年 第z1期

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