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AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究 被引量：1

Structure and Hydrophilicity of Titanium Dioxide Film Prepared by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
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摘要 基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl4为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO2薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.
作者 刘鹏 汪建勋 翁文剑 韩高荣
机构地区 浙江大学材料系
出处 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期60-62,共3页 Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
基金 国家863计划(No.2001AA320202)
关键词 二氧化钛薄膜 AP-CVD 亲水性 TICL4
分类号 O484.4 [理学—固体物理]
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参考文献7

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同被引文献13

引证文献1

二级引证文献4

真空科学与技术学报
2004年 第z1期

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