有机蒙脱石的制备及其层间插层剂排布模式研究被引量：1

Preparation of Organophilic Montmorillonite and Models of the Organic Reagent in it

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摘要本文按正交法设计了18个制备有机蒙脱石的实验,并对其进行表征.FTIR证实有机插层剂已进入蒙脱石.XRD结果表明有机蒙脱石的层间距最大达到了3.98 nm,同时根据XRD结果作者推测出蒙脱石插层结构排列演变模式为:单层平卧→倾斜单层→假三层→倾斜双层.其中倾斜单层结构中能达到的最大层间距3.22 nm.

作者徐芳沈上越谢静

出处《过程工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期256-260,共5页 The Chinese Journal of Process Engineering

基金国土资源部项目(编号:121280201102)

关键词蒙脱石有机蒙脱石正交法层间距模式

分类号 TQ02-55 [化学工程]

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