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亚微米/深亚微米的栅氧清洗技术 被引量：2

Cleaning Way of Submicron /deep-Submicron Gate oxide
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摘要 栅氧前清洗是栅氧工艺的重要部分,本文介绍二种适用于亚微米/深亚微米的清洗工艺: 采用稀释化学试剂和兆声波清洗的VCS清洗工艺和IMEC清洗工艺。 Pre-gate cleaning is important to gate oxide quality .This paper introduce two cleaning way which used in submicron /deep-submicron process: VCS cleaning and IMEC cleaning .Diluted chemical and Megasonic are used in two cleaning.
作者 徐政 郑若成 何磊
机构地区 中国电子科技集团公司第
出处 《电子与封装》 2003年第3期36-39,共4页 Electronics & Packaging
关键词 清洗 兆声 颗粒 ZETA电势 Cleaning Megasonic Particle ZETA potential
分类号 TN305.99 [电子电信—物理电子学]
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同被引文献27

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引证文献2

二级引证文献13

电子与封装
2003年 第3期

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