摘要
有机合成中,硅保护基(TBSCl,TESCl,TBDPSCl,TIPSCl,TMSCl等)是一种应用极为普遍的羟基官能团保护基[1].但是,该类保护基经常发生迁移(重排)现象,从而使得反应(或产物)较为复杂.我们在研究过程中首次发现α-硅氧酮2与各类醛1的Aldol反应中硅保护基(TBSCl,TBDPSCl等)也能发生迁移,结果如Scheme 1所示.……
出处
《有机化学》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2003年第z1期458-,共1页
Chinese Journal of Organic Chemistry
基金
国家自然科学基金(No.20072012)和高校博士学科专项基金(No.20010730001)资助项目.
