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联吡啶还原合成吡啶基四氢吡啶和吡啶基六氢吡啶 被引量：1

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摘要 　　吡啶基四氢吡啶衍生物(Ⅰ)和吡啶基六氢吡啶衍生物(Ⅱ)是α受体和HT1A受体类似物的结构组成部分,应用在药物合成中[1].Ⅰ和Ⅱ可通过环化反应、烷基化反应或联吡啶还原合成[2].环化反应或烷基化反应路线较长,且易形成含不饱和哌啶基吡啶的混合物,需要进一步的还原或纯化[2a];用Ni合金还原联吡啶只能直接合成吡啶基六氢吡啶,且反应时间长,收率低[2d];N-氧化联吡啶还原合成吡啶基六氢吡啶收率低,不适用于大量合成[2e].……
作者 康传清 郭海泉 张敏杰 邱雪鹏 高连勋
机构地区 中国科学院长春应用化学研究所
出处 《有机化学》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第z1期58-59,共2页 Chinese Journal of Organic Chemistry
分类号 O62 [理学—有机化学]
  • 相关文献

参考文献2

  • 1[1](a) Bock, M. G.; Payne, L. S.; Hoffman, J. M.; Dipardo, R. M. GB 2355456, 2001 [Chem. Abstr. 2001, 135,226992].(b) Nagarathnam, D.; Chiu, G.; Dhar, T. G. M.; Wong, W. C. US 6268369, 2001 [Chem. Abstr. 2001, 135, 137519].(c) Romanelli, M. N.; Manetti, D.; Scapecchi, S.; Borea, P. A. J. Med. Chem. 2001, 44(23), 3946.(d) Kamei, K.; Maeda, N.; Ogino, R. Bioorg. Med. Chem. Lett. 2001, 11, 595.(e) Baroni, M.; Bernard, B.; Rosanna, C. PCTInt. Appl. WO 01/29026, 2001 [Chem. Abstr. 2001, 134, 311115].
  • 2[2] (a) Baliah, V.; Jeyaraman, R.; Chandrasekaran, L. Chem. Rev. 1983, 83, 379.(b) Rádl, S.; Hezky, P.; Taimr, J.; Proska, J.; Krevjcí, I. J. Heterocycl. Chem. 1999, 36, 1017.(c) O'Neill, B. T.; Yohannes, D.; Bundesmann, M. W. Org. Lett. 2000, 2(26), 4201.(d) Lunn, G. J. Org. Chem. 1992, 57, 6317.(e) Plaquevent, J.-C.; Chichaoui, I. Tetrahedron Lett. 1993, 34(33), 5287.

引证文献1

有机化学
2003年 第z1期

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