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纳米结构的制备及其应用

Fabrication of the Nano-Structure and Its Applications
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摘要 　介绍了用电子束光刻、反应离子刻蚀方法制备硅量子线、量子点的工艺方法;采用这种工艺在P型SIMOX(separationbyimplantedoxygen)硅片上成功地制造出一种单电子晶体管。 Technologies for preparation of Si quantum wire and dot based on EBL and RIE processes are reported in the paper Single electron transistor (SET) on ptype SIMOX substrates was fabricated based on these processes
作者 卢刚 毛胜春
机构地区 西安理工大学电子工程系 西安理工大学应用物理系
出处 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期416-418,共3页 Microelectronics
基金 西安理工大学校长基金资助(No.210201)
关键词 纳米结构 单电子晶体管 量子线 量子点 Nano-structure Single electron transistor (SET) Quantum wire Quantum dot
分类号 TN32 [电子电信—物理电子学]
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参考文献6

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微电子学
2002年 第6期

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