透绝缘层内窥透视集成电路法中Lock-in的应用

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摘要提出一种新的在扫描电子显微镜中非接触无损透过半导体和集成电路表面绝缘层显微内窥透视检测掩盖在其绝缘层下面的半导体的缺陷和集成电路微结构的检测法(简称透表法)和用此法所观测到的图像。同时，本文还介绍了在此新检测法中Lock-in的应用。

出处《数据采集与处理》 CSCD 2001年第z1期108-111,共4页 Journal of Data Acquisition and Processing

关键词扫描电子显微镜透过表面绝缘层非接触无损显微内窥透视检测法半导体和集成电路微结构和缺陷锁相放大器

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