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直流磁控溅射辉光等离子体的Langmuir静电探针诊断 被引量:4

Langmuir Probe Diagnosis of DC Magnetron Sputtering Glow Discharge Plasma
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摘要 与大连理工大学合作研制了新型Langmuir静电探针。应用研制的静电探针,对氩气直流磁控溅射铜等离子体进行了轴向和径向二维空间内的诊断。诊断结果显示:电子温度随着离靶面距离增大而递减;电子密度在径向和轴向均存在波动;电子能量主要分布在0eV~5eV范围内,高能电子占比例极少。 A novel type of Langmuir probe has been successfully developed and fabricated to diagnose the glow discharge plasma used in direct current(DC)magnetron sputtering.The 2-dimensional diagnosis along the radial and axial directions of the argon plasma in DC magnetron sputtering of copper target was performed.The results show that the plasma temperature decreases as the position moves away from the target,and that both the radial and axial electron density distributions fluctuate.In addition,the electron energy...
出处 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期79-82,共4页 Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
关键词 直流磁控溅射 Langmuir静电探针 等离子体 诊断 DC magnetron sputtering Langmuir electrostatic probe Plasma Diagnostic
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献29

  • 1林揆训,余云鹏,林璇英,王洪.射频辉光放电等离子体的电探针诊断[J].核聚变与等离子体物理,1994,14(1):56-64. 被引量:10
  • 2丁振峰,任兆杏,史义才,张束清,戴松元.微波电子回旋共振等离子体刻蚀研究[J].真空科学与技术,1996,16(6):439-444. 被引量:4
  • 3David B.Graves.IEEE Trans Plasma Sci,1994,22(1):31
  • 4Peter L.G.Ventzek,Timothy J.Sommerer,Robert J.Hoekstra et al.Appl Phys Lett,1993,63(5):605
  • 5Marwan H Khater,Lawrence J Overzet.Plasma Sources Sci Technol,2000,9:545
  • 6Kazuyoshi Yoshida,hidenobu Miyamoto,Eiji Ikawa et al.Jpn J Appl Phys,1995,34(4B):2089
  • 7Keh-Chyang LEOU.Szu-Che TSAI,Chai Hau CHANG et al.Jpn J Appl Phys,1999,38(7B):4268
  • 8Ching-hwa Chen,David Liu,Duc Tran et al.US Patent No.5226967,1993
  • 9Meziani T,Colpo P,Rossi F.Plasma Sources Sci Technol,2001,10:276
  • 10Wendt A E,Mahoney L J.Pure & Appl Chem,1996,68(5):1055

共引文献45

同被引文献46

引证文献4

二级引证文献6

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